لیبل متالایز رنگی

لیبل متالایز رنگی از یک ساختار پیشرفته چندلایه تشکیل شده که شامل لایه پایه پلیاستر (PET) با درجه اپتیک، لایه متالایز آلومینیوم با ضخامت نانومتری، و لایه رنگدانه ویژه با پایه رزین اکریلیک است. این متریال با استفاده از فرآیند رسوب‌دهی مغناطیسی (Sputtering) تولید شده که امکان ایجاد طیف وسیعی از رنگ‌های ثابت را فراهم می‌کند. سطح آن با پوشش محافظ یووی-کیور حاوی نانوذرات سرامیکی تقویت شده و با چسب‌های سیلیکونی اصلاح‌شده برای چسبندگی به سطوح مختلف مجهز می‌شود.

لیبل متالایز طلایی

لیبل متالایز طلایی از ترکیب پایه‌های پلیمری (معمولاً PET یا OPP) با لایه نازک فلز طلا به روش متالایزیشن تحت خلا تولید می‌شود. در این فرآیند، اتم‌های طلا در محفظه خلأ تبخیر شده و به صورت یکنواخت روی سطح پلیمر رسوب می‌کنند. ضخامت لایه طلا معمولاً بین ۰٫۰۲ تا ۰٫۱ میکرون است و با پوشش محافظ UV پوشانده می‌شود تا از اکسیداسیون و سایش جلوگیری کند. از چسب‌های آکریلیک حساس به فشار برای نصب روی سطوح مختلف استفاده می‌شود که مقاومت بالایی در برابر رطوبت ایجاد می‌کند.

لیبل متالایز نقره ای

لیبل متالایز نقره‌ای از یک ساختار چندلایه پیشرفته تشکیل شده که شامل لایه پایه پلیاستر (PET) یا پلیپروپیلن (PP) با ضخامت ۵۰-۱۲۵ میکرون، لایه متالایز آلومینیوم خالص با خلوص ۹۹٫۹٪ که به روش رسوب‌دهی فیزیکی بخار (PVD) اعمال می‌شود، و لایه محافظ سیلیکونی نانوساختار است. این متریال با استفاده از فرآیند کو-اکستروژن پلاسما تولید شده و با پوشش ضد اکسیداسیون یونی تقویت می‌گردد. سطح آن با پرایمر اپوکسی مخصوص آماده‌سازی شده و با چسب‌های آکریلیک فشارقوی هالوژن‌فری مجهز می‌شود.

لیبل متالایز هولوگرافیک

لیبل متالایز هولوگرافیک از یک ساختار نانومتری پیشرفته تشکیل شده که شامل لایه پایه پلیاستر (PET) با ضخامت ۱۲-۵۰ میکرون، لایه آلومینیوم با خلوص ۹۹.۹٪ که به روش رسوب‌دهی بخار فیزیکی (PVD) اعمال می‌شود، و لایه دی‌الکتریک اپتیکی از جنس اکسید سیلیکون یا تیتانیوم است. این متریال با استفاده از لیتوگرافی لیزری و فرآیند امباسینگ نانومتری تولید شده که الگوهای پراش منحصر به فرد ایجاد می‌کند. سطح آن با پوشش پلیاورتان با ضریب شکست متغیر تقویت شده و با چسب‌های اکریلیک شفاف حساس به فشار مجهز می‌شود.

لیبل مغناطیسی

لیبل مغناطیسی از ترکیب مواد مگنتیک انعطاف‌پذیر مانند ترکیبات استرانسیوم فریت یا مواد پلیمری حاوی ذرات مغناطیسی تولید می‌شود. این متریال معمولاً در ضخامت ۰٫۵ تا ۱٫۵ میلی‌متر با پوشش وینیل یا پلیاستر در دو طرف تولید شده و با چسب فشار قوی آکریلیک مجهز می‌گردد. لایه مغناطیسی با استفاده از فرآیند اکستروژن دو مرحله‌ای با پرکننده‌های مغناطیسی ۸۰-۹۰٪ ترکیب شده و سطح آن با پوشش ضد خش یووی محافظت می‌شود. از روکش سلفون شفاف برای محافظت از چاپ و افزایش دوام استفاده می‌شود.

لیبل نایلونی

لیبل کاغذ نایلونی از الیاف پلی‌آمید مصنوعی با درجه خلوص ۸۵-۹۵٪ تولید می‌شود که با پرکننده‌های معدنی مانند کربنات کلسیم (۱۵-۳۰٪) و رزین‌های اپوکسی اصلاح‌شده ترکیب می‌گردد. این متریال با گرماژ ۶۰ تا ۱۸۰ گرم بر متر مربع و از طریق فرآیند ترموباندینگ دو مرحله‌ای تولید شده که ساختار فیبری یکنواختی ایجاد می‌کند. سطح آن با پوشش پلی‌اورتان ضد آب پردازش شده و با چسب‌های پلی‌آمیدی حساس به فشار مجهز می‌گردد. استفاده از نانوذرات سیلیکا در ترکیب این متریال، مقاومت سایشی آن را افزایش می‌دهد.